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(直流)偏压电源-B

发布者:admin2022-11-13

(直流)偏压电源-B

1.简介:

(1)用途:偏压电源主要用于多弧离子和磁控溅射镀膜过程中的辉光清洗、离子轰击和膜层沉积时在被镀工件上施加偏压,在辉光清洗时,它产生辉光;在离子轰击中用于加速离子,提高离子轰击工件表面进的能量,达到溅射清洗效果和提高膜层结合力的目的,在膜层沉积时,它也用于增加离子能量,促进和改善薄膜生长,也会提高膜基结合力。

(2)定义:偏压(Bias)是指在镀膜过程中施加在基体上的负电压,偏压电源输出端有两个电极,一个正极(+),一个负极(-),使用时要求正极(+)端子连接镀膜设备真空室外壳,负极(-)端子连接到工件,同时要求真空室外壳必须接入大地(大地的电位定义为零电位),由于偏压电源工作时输出端正极(+)电位高于负极(-)电位,而正极(+)端子又被接入大地,电位为零,于是负极(-)端子输出是一个负电压,正是这个加在工件上的负电压习惯说为负偏压,简称偏压;根据输出波形分类,偏压电源主要包括直流偏压和脉冲偏压两种,使用者可根据不同的膜层工艺要求配置不同技术标准的偏压电源。

2.产品特点:

(1)输出负极性直流电压(输出端正极连接真空室外壳,输出端负极连接到工件)。

(2)人机交互操作界面;DSP数字芯片控制;RS485通信;远/近控切换;非晶逆变。

(3)自定义恒流、恒压、恒功率控制。

(4)内置电子电抗;自动匹配负载。

(5)内置大功率高频开关稳压电源。 

(6)完善的保护功能;设有过流、过压、过热、限流、短路等多重保护。

(7)提高真空等离子体内带电粒子能量,轰击清洁被镀工件表面,提高沉积膜层的结合力。

(8)单片机C语言及汇编语言编程,键盘矩阵并行数据传输,瞬态响应快,误码率低,部分性能优于组态触摸屏/PLC。

(9)占空比(PWM)调节输出。

(10)工作频率范围:20KHz-100KHz,可根据客户要求设定。

3.技术参数【注:PY-60KW为(主机+从机)2单元组合】

型号(B型)输入电压

输出功率

   (Max)

输出电压(-)

输出电流

   (Max)

冷却方式外形尺寸
PY-10KW

380V+N ±10%

50-60 Hz
10KW

H档:0~-800V/1000V

L档: 0~-400V/500V

  12.5A

水冷+风冷

480*280*580mm

PY-20KW

380V+N ±10%

50-60 Hz
20KW

H档:0~-800V/1000V

L档: 0~-400V/500V

  25A

水冷+风冷

480*280*580mm

PY-30KW

380V+N ±10%

50-60 Hz
30KW

H档:0~-800V/1000V

L档: 0~-400V/500V

  37.5A

水冷+风冷

480*280*580mm

PY-40KW

380V+N ±10%

50-60 Hz
40KW

H档:0~-800V/1000V

L档: 0~-400V/500V

  50A

水冷+风冷

480*280*580mm

PY-60KW

主机+从机

380V+N ±10%

50-60 Hz
60KW

H档:0~-800V/1000V

L档: 0~-400V/500V

  75A

水冷+风冷

480*280*580mm

       (2单元)